1、H日中华人民共和国航空行业标准HB/Z 5095.3一2004氰化电镀黄铜溶液分析方法第3部分:电位滴定法测定碳酸钠的含量Methods for analysis of cyaniding plating brass solutions一part3 : Determination of sodiumcarbonate content by potentiometric titrimetric method2004一02一16发布2004一06一01实施国防科学技术工业委员会发布HB/Z 5095. 3一2004月U吕HB/Z 5095氰化电镀黄铜溶液分析方法分为三个部分:a)第1部分:EDTA
2、容量法连续测定氰化亚铜和氧化锌的含量;b)第2部分:电位滴定法测定氰化钠(游离)的含量;c)第3部分:电位滴定法测定碳酸钠的含量。本部分为HB/Z 5095的第3部分。本部分是按工艺标准HB/Z 5069的要求新增加的分析方法。本部分由中国航空工业第二集团公司提出。本部分由中国航空综合技术研究所、北京航空材料研究院归口。本部分主要起草单位:122厂。本部分主要起草人:张宪廷、张立民、王振林。HB/Z 5095于1978年首次发布。HB/Z 5095.3一2004氰化电镀黄铜溶液分析方法第3部分:电位滴定法测定碳酸钠的含量范围本部分规定了采用电位滴定法测定氰化电镀黄铜溶液中碳酸钠含量的原理、试剂
3、、仪器、分析步骤及分析结果的计算。本部分适用于氰化电镀黄铜溶液中碳酸钠含量的测试。测量范围:15留L-45创Lo2规范性引用文件下列文件中的条款通过本部分的引用而成为本部分的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有的修改单(不包含勘误的内容)或修订版均不适用于本部分，然而，鼓励根据本部分达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本部分。HB/Z 5083一2001金属镀覆和化学覆盖溶液分析用试剂3原理碳酸钠与氯化钡作用生成碳酸钡沉淀，经过滤或离心分离后，以玻璃电极为指示电极，饱和甘汞电极为参比电极，用盐酸标准滴定溶液对碳酸钡进行电位滴定。4试剂4.1
4、氯化钡溶液:100g/La4.2盐酸标准滴定溶液:约lmol/L，配制和标定按H1酬Z 5083一2001中6.2的规定进行。4.3无二氧化碳的水:配制和标定按HB/Z 5083一2001中4.1的规定进行。5仪器5.1玻璃电极。5.2饱和甘汞电极。5.3酸度计或自动电位滴定仪:应具有0.1州单位或1Omv的精确度。5.4磁力搅拌器。6分析步骤取10. OOmL试验溶液于200mL烧杯中，加50mL约80的无二氧化碳的水(4. 3) ,15mL氯化钡溶液(4.1),搅拌2min，用慢速滤纸过滤。用热水洗涤沉淀至近中性后，将沉淀和滤纸移人原烧杯中，加100mL无二氧化碳的水(4.3)，在中速搅拌下(滤纸搅拌至细碎状)浸泡电极2min。用盐酸标准滴定溶液(4.2)进行电位滴定，滴定至pH值4.0为滴定终点。7分析结果的计算按式(1)计算碳酸钠(Na2003)含量W，数值以克每升(g/L)表示:一Vxcx八4VHB/Z 5095.3一2004式中:V滴定终点时耗用盐酸标准滴定溶液的体积，单位为毫升(mL) ;。盐酸标准滴定溶液的浓度，单位为摩尔每升(mol/L) ;Vo滴定时试验溶液的体积，单位为毫升(mL) ;M-碳酸钠的摩尔质量，单位为克每摩尔(g/mol)( M =52.994)0
