1、 ISO 2014 Adhsifs Mthodes dessai pour adhsifs conductivit lectrique isotrope Partie 8: Mthodes dessai de migration lectrochimique Adhesives Test methods for isotropic electrically conductive adhesives Part 8: Electrochemical-migration test methods NORME INTERNATIONALE ISO 16525-8 Premire dition 2014
2、05-15 Numro de rfrence ISO 16525-8:2014(F) ISO 16525-8:2014(F)ii ISO 2014 Tous droits rservs DOCUMENT PROTG PAR COPYRIGHT ISO 2014 Droits de reproduction rservs. Sauf indication contraire, aucune partie de cette publication ne peut tre reproduite ni utilise sous quelque forme que ce soit et par auc
3、un procd, lectronique ou mcanique, y compris la photocopie, laffichage sur linternet ou sur un Intranet, sans autorisation crite pralable. Les demandes dautorisation peuvent tre adresses lISO ladresse ci-aprs ou au comit membre de lISO dans le pays du demandeur. ISO copyright office Case postale 56
4、CH-1211 Geneva 20 Tel. + 41 22 749 01 11 Fax + 41 22 749 09 47 E-mail copyrightiso.org Web www.iso.org Publi en Suisse ISO 16525-8:2014(F) ISO 2014 Tous droits rservs iii Sommaire Page Avant-propos iv 1 Domaine dapplication . 1 2 Rfrences normatives . 1 3 T ermes et dfinitions . 1 4 Principe 2 5 App
5、areillage et carte de circuit imprim 2 5.1 Prparation dune prouvette 4 5.2 Cblage de mesure . 4 6 Essai . 5 6.1 Conditions dessai . 5 6.2 Mode opratoire dessai 5 6.3 Dcision . 8 7 Rapport dessai . 8 Bibliographie 9 ISO 16525-8:2014(F) Avant-propos LISO (Organisation internationale de normalisation)
6、est une fdration mondiale dorganismes nationaux de normalisation (comits membres de lISO). Llaboration des Normes internationales est en gnral confie aux comits techniques de lISO. Chaque comit membre intress par une tude a le droit de faire partie du comit technique cr cet effet. Les organisations
7、internationales, gouvernementales et non gouvernementales, en liaison avec lISO participent galement aux travaux. L ISO collabore troitement avec la Commission lectrotechnique internationale (IEC) en ce qui concerne la normalisation lectrotechnique. Les procdures utilises pour laborer le prsent docu
8、ment et celles destines sa mise jour sont dcrites dans les Directives ISO/IEC, Partie 1. Il convient, en particulier de prendre note des diffrents critres dapprobation requis pour les diffrents types de documents ISO. Le prsent document a t rdig conformment aux rgles de rdaction donnes dans les Dire
9、ctives ISO/IEC, Partie 2 (voir www. iso.org/directives). Lattention est appele sur le fait que certains des lments du prsent document peuvent faire lobjet de droits de proprit intellectuelle ou de droits analogues. LISO ne saurait tre tenue pour responsable de ne pas avoir identifi de tels droits de
10、 proprit et averti de leur existence. Les dtails concernant les rfrences aux droits de proprit intellectuelle ou autres droits analogues identifis lors de llaboration du document sont indiqus dans lIntroduction et/ou dans la liste des dclarations de brevets reues par lISO (voir www.iso.org/brevets).
11、 Les appellations commerciales ventuellement mentionnes dans le prsent document sont donnes pour information, par souci de commodit, lintention des utilisateurs et ne sauraient constituer un engagement. Pour une explication de la signification des termes et expressions spcifiques de lISO lis lvaluat
12、ion de la conformit, ou pour toute information au sujet de ladhsion de lISO aux principes de lOMC concernant les obstacles techniques au commerce (OTC), voir le lien suivant: Avant-propos Informations supplmentaires. Le comit charg de llaboration du prsent document est lISO/TC 61, Plastiques, sous-c
13、omit SC 11, Produits. LISO 16525 comprend les parties suivantes, prsentes sous le titre gnral Adhsifs Mthodes dessai pour adhsifs conductivit lectrique isotrope: Partie 1: Mthodes dessai gnrales Partie 2: Dtermination des proprits lectriques pour utilisation dans des assemblages lectroniques Partie
14、3: Dtermination des proprits de transfert de chaleur Partie 4: Dtermination de la rsistance au cisaillement et de la rsistance lectrique des assemblages colls rigide sur rigide Partie 5: Dtermination de la fatigue par cisaillement Partie 6: Dtermination de la rsistance au choc du type pendule Partie
15、 7: Mthodes dessai environnemental Partie 8: Mthodes dessai de migration lectrochimique Partie 9: Dtermination des proprits de transmission de signal haute vitesseiv ISO 2014 Tous droits rservs NORME INTERNATIONALE ISO 16525-8:2014(F) Adhsifs Mthodes dessai pour adhsifs conductivit lectrique isotrop
16、e Partie 8: Mthodes dessai de migration lectrochimique AVERTISSEMENT Il convient que lutilisateur du prsent document connaisse bien les pratiques courantes de laboratoire. Le prsent document na pas pour but de traiter tous les problmes de scurit qui sont, le cas chant, lis son utilisation. Il incomb
17、e lutilisateur dtablir des pratiques appropries en matire dhygine et de scurit, et de sassurer de la conformit la rglementation en vigueur. I M P O R T A N T C e r t a i n s m o d e s o p r a t o i r e s s p c i f i s d a n s l e p r s e n t d o c u m e n t p e u v e n t i m p l i q u e r lutilisati
18、on ou la gnration de substances ou de dchets pouvant reprsenter un danger environnemental localis. Il convient de se rfrer la documentation approprie concernant la manipulation et llimination aprs usage en toute scurit. 1 Domaine dapplication La prsente partie de lISO 16525 spcifie les mthodes dessa
19、i pour confirmer la survenue dune migration lectrochimique dans les adhsifs conductivit lectrique isotrope temprature et humidit leves. La rsistance lectrique est galement dtermine. 2 Rfrences normatives Les documents suivants, en tout ou partie, sont rfrencs de manire normative dans le prsent docum
20、ent et sont indispensables pour son application. Pour les rfrences dates, seule ldition cite sapplique. Pour les rfrences non dates, la dernire dition du document de rfrence sapplique (y compris les ventuels amendements). ISO 472, Plastiques Vocabulaire ISO 291, Plastiques Atmosphres normales de con
21、ditionnement et dessai ISO 9455-17, Flux de brasage tendre Mthodes dessai Partie 17: Essai au peigne et essai de migration lectrochimique de rsistance disolement de surface des rsidus de flux CEI 60068-2-67, Essais denvironnement Partie 2-67: Essais Essai Cy: Essai continu de chaleur humide, essai a
22、cclr applicable en premier lieu aux composants CEI 61249-2-7, Matriaux pour circuits imprims et autres structures dinterconnexion Partie 2-7: Matriaux de base renforcs, plaqus et non plaqus Feuille stratifie tisse de verre E avec de la rsine poxyde, dinflammabilit dfinie (essai de combustion vertica
23、le), plaque cuivre 3 T ermes et dfinitio ns Pour les besoins du prsent document, les termes et dfinitions donns dans lISO 472 et lISO 9455-17, ainsi que les suivants, sappliquent. ISO 2014 Tous droits rservs 1 ISO 16525-8:2014(F) 3.1 migration lectrochimique dfaillance de nature lectrochimique qui s
24、e produit lorsquune tension est applique entre des lectrodes utilisant des adhsifs conductivit lectrique isotrope, en prsence dhumidit, et lorsque les lectrodes se dissolvent par migration et dpt cathodique, donnant lieu un court-circuit Note 1 larticle: Elle est acclre par la temprature, lhumidit e
25、t la tension. 3.2 lectrode en forme de peigne circuit de contrle trac en peigne, form sur une carte de circuit imprim 4 Principe Des lectrodes en forme de peigne, constitues sur une carte de circuit imprim au moyen dun adhsif conductivit lectrique isotrope, sont exposes une humidit leve; puis une te
26、nsion est applique entre ces lectrodes pour vrifier si une migration lectrochimique a eu lieu ou non. Pour valuer la prsence dune migration lectrochimique, on mesure les courants de fuite entre les lectrodes et on enregistre la variation de la rsistance disolement. lissue de lessai, on examine la su
27、rface entre les lectrodes laide dun microscope pour vrifier si une migration lectrochimique a eu lieu ou non. 5 Appareillage et carte de circuit imprim 5.1 Appareil de mesure de rsistance leve, tel que spcifi dans lISO 9455-17, capable de mesurer avec une grande prcision une rsistance leve dans la p
28、lage comprise entre 10 6 et 10 12. Lors de la mesure de la rsistance, la plage de tension est comprise entre 10 V et 100 V. 5.2 Alimentation en courant continu, capable de gnrer, avec une grande prcision, une tension continue dans la plage comprise entre 10 V et 100 V. 5.3 Enceinte humide, capable d
29、e maintenir la temprature et lhumidit spcifies dans un espace utile. Pour maintenir une temprature et une humidit uniformes, il est possible dutiliser une circulation dair force. 5.4 Microscope, avec un grossissement de 50 250, et une lumire clairant lprouvette une luminance denviron 2 000 lx. 5.5 p
30、rouvette, ayant les caractristiques suivantes. a) Matriau du substrat Stratifi de verre textile imprgn de rsine poxyde plaqu cuivre spcifi dusage gnral, avec un substrat simple face, conformment la CEI 61249-2-7. b) paisseur du substrat 1,6 mm 0,2 mm ou lpaisseur spcifie dans la CEI 61249-2-7. c) Di
31、mensions du trac en peigne Voir la Figure 1.2 ISO 2014 Tous droits rservs ISO 16525-8:2014(F) d) C o n f i g u r a t i o n d e l p r o u v e t t e Utiliser lun des tracs suivants (voir Figure 2):1) un trac en cuivre grav dans la surface du substrat conformment aux spcifications de largeur du conduct
32、eur; 2) un trac en cuivre grav uniquement dans les lectrodes de connexion. Trac A B mm CW (1) 0,165 0,318 CG (2) 0,318 OC (5) 15,75 d (4) 5,0 Lgende 1 largeur du conducteur 4 distance entre lectrodes de connexion 2 espacement du conducteur 5 recouvrement du conducteur 3 lectrodes de connexion Figure
33、 1 Trac en peigne dune prouvette et dun pochoir Dimensions ISO 2014 Tous droits rservs 3 ISO 16525-8:2014(F) Lgende 1 prouvette (stratifi de verre textile imprgn de rsine poxyde) 2 trac en cuivre grav 3 trac grav uniquement dans les lectrodes F i g u r e 2 C o n f i g u r a t i o n d p r o u v e t t
34、 e 5.1 Prparation dune prouvette Lprouvette doit tre prpare comme suit. a) Adhsif conductivit lectrique isotrope Il est ncessaire dutiliser un adhsif conductivit lectrique isotrope comprenant un matriau en pte contenant un liant organique, dans lequel les particules ou flocons mtalliques sont disper
35、ss. On utilise gnralement une rsine durcissant chaud. b) Srigraphie et durcissement Un trac en peigne doit tre ralis en appliquant par srigraphie ladhsif conductivit lectrique isotrope sur le substrat. Les conditions de durcissement dpendent des spcifications de ladhsif conductivit lectrique isotrop
36、e. c) Examen visuel Un examen visuel ou un examen microscopique doit tre effectu pour vrifier la prsence dimpurets et dun pont entre lectrodes. 5.2 Cblage de mesure La Figure 3 reprsente un schma de cblage de mesure. Pour raccorder lprouvette lappareil de mesure de rsistance leve, il est ncessaire d
37、utiliser des cbles blinds. Pour le cblage du bain dessai, il est ncessaire dutiliser un cble en polyttrafluorothylne (PTFE) non susceptible dmettre des gaz. Il convient dutiliser une soudure pour raccorder les cbles blinds llectrode sur la carte de circuit de contrle.4 ISO 2014 Tous droits rservs IS
38、O 16525-8:2014(F) Lgende 1 appareil de mesure de rsistance leve 5 entre du signal 2 cble blind 6 alimentation en tension 3 enceinte humide 7 prouvette 4 protection (terre) Figure 3 Schma de cblage de mesure 6 Essai 6.1 Conditions dessai Sauf indication contraire dans les spcifications des produits,
39、les conditions dessai spcifies dans le Tableau 1 doivent tre utilises et doivent tre conformes lISO 9455-17 et la CEI 60068-2-67. Tableau 1 Conditions dessai Temprature dessai C Humidit dessai % Tension de polari- sation Vcc Tension de mesure Vcc Dure h 85 2 50 50 1 000 6.2 Mode opratoire dessai Le
40、mode opratoire dessai est le suivant. a) Mesure initiale ISO 2014 Tous droits rservs 5 ISO 16525-8:2014(F) Procder un examen visuel ou un examen microscopique pour vrifier laspect et enregistrer la valeur de la rsistance disolement la temprature normale de 25 C 2 C et lhumidit normale de 50 % 5 % co
41、nformment lISO 291. b) Essais Placer une prouvette dans le bain dessai conformment 6.1, puis appliquer une tension de polarisation lorsque la temprature et lhumidit ont atteint les conditions normales spcifies, telles quindiques la Figure 4.6 ISO 2014 Tous droits rservs ISO 16525-8:2014(F) 85% 50% 8
42、5C 25C ON OFF se t 2h 1h 1h 1h 1h 1h Lgende X temps, h Y humidit relative, % HR Y temprature, C Y tension de polarisation, Vcc s dbut de lessai t dure e fin de lessai F i g u r e 4 P r o f i l d e s s a i ISO 2014 Tous droits rservs 7 ISO 16525-8:2014(F) c) Mesure intermdiaire Il est possible de mes
43、urer la rsistance disolement au cours dun essai, alors que lprouvette se trouve encore dans le bain. Dans ce cas, la mthode et lintervalle de mesure doivent tre spcifis. Lprouvette ne doit pas tre retire du bain pour effectuer la mesure. d) M esure f ina l e Aprs avoir mesur la rsistance disolement
44、dans le bain, laisser la temprature et lhumidit du bain revenir aux conditions normales et retirer lprouvette du bain. Procder lexamen visuel de laspect de lprouvette et lexamen microscopique et consigner la prsence ou labsence de migration lectrochimique. 6.3 Dcision Sauf indication contraire dans
45、les spcifications des produits, il est ncessaire de dterminer le temps durant lequel la rsistance disolement tait infrieure ou gale 10 M. 7 Rapport dessai Le rapport dessai doit contenir les lments suivants. noter que certains lments peuvent tre slectionns des points a) h) sur accord entre les parti
46、es mettrices et destinataires: a) le nom de marque de ladhsif conductivit lectrique isotrope et ses donnes, y compris les types de rsine; de matire de charge, le code de fabricant et le numro de lot; b) les exigences relatives aux prouvettes, y compris le matriau; c) le mode opratoire dapplication de ladhsif conductivit lectrique isotrope, y compris le temps de durcissement ou le temps de prise, la temprature et la pression du mode opratoire de collage; d) les dimensions des prouvettes et de llectrode en forme de peigne; e) le numro de modle de lappareil de
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