1、中，、圄l司SJ2794 87 1988-05-18发布1988-10-01实施中华人民共和国电子工业批准中华人民共和子工业SJ2794 87 电子本标准适用于半导体材料、分立器件和集成电路生产工艺过程中使用的电子级氢。按其使用要求电子级氧分为三级。代号为2电子E级氨-;号为zDZHz-E z 电子E级氢代号为EDZH2-E z 电子I级氢代号为zDZIfz一10 1. 1 电子级氢应符合表1中的要求z1 电子技术:旨序号抱中4名草草E 级E 级司一一- - -一一一一-一一-一E一一唱一-氢含量，% 9引999 85 (9.9989 -一一、一一一2 氧含量，ppm 0.1 - -一，一【一
2、一3 氮合盔.p p m .;: o . 1 -嚼一-4 叩统含量.ppmg亏o .1 5 4一-一-氧化碳+二氧化5 含量.ppm二。.2 一一一一一一一-甲-一一一6 水份含量.ppm 3 4 耳叮LFP , 个/ 到4 : ( 二三、m) :1 (注。.m) 一一-宁一一一一一一-一一-一一一日子部分大规丁子中小规模和lf豆、超大规模集1) .$)-太规模集成8 用途举例IX;电赂、碑化嫁在路及其相应电再导体及其相应昌外延等.也路外延等. I表1中气体含量均为体积比.子1987-05-18发布标i !k -一-咽一9) .9984 一-5 -一-一-一一1 I 3 (二:-:0.:3m)
3、哨子烧络、退火等.1988斗。-01实一1一SJ 2794 87 1.2 电子级含量C立应按下列公式计奸ZC氢10 0 o/ C 式中zCfz一一电子级氧体积百分含恳EC于一一杂质体积百分含2 试验方法2. 1 电子级氢中杂质含量应按表2规寇的方法逃行检验=2 电子中方法H=号杂质利;类检验方法标准号检验方;去f 飞1:名fB; I 氮S1280.j-87 电子级公. .( rj1 i点盈亏:idjHA、氛的如:ji汪方法变i孟浓缩色iJ法M叫一一一一问, 辛LSJ 2806-87 也子叹24片1i涎虽氧和t茸的狈iiJ t )J 1 主:i孟;武勺3讼法3 甲t SJ 2800-87 电子，
4、气体中以这Ip坏的洲之方法氢焰色讼法4 一氧化碳SJ 2801 -8 7 电子级气体中痕盘一氧化碳均测定方法氢焰斗斗化色谱法5 二:iL化以S1 2802-87 电子级气体中疫量二氧化碳的圳工正方法泊辛H仁色谱法6 水份SJ 2799-87 电子级气体l书法量:;二f泞的测定方法目视FE点i去7 j品:粮SJ 2798-87 电子吸气休中)!犯的狈j定方法JLh与ft 扫is0.3m以丁、4响应lJ元方法标准待定.使用子级主豆时应注意安全.3 3.1 电子级氢由用气单位的质门按技术指标经常检验，应符合本标准中的规寇.3, 2 电子级氢的检验(取梓)点在纯化装置至用气设备的管段。见下图所示z-2一SJ 2794 81 检验点一一气if纯比4 装置用气设备图检验(取样)点位置3.3 当检验点前的气源改变时，必须检规定。1中2 7项各种指标，应符合本标准中的3.4 纯化装置至用气设备的管路。管接件租过滤器更换与维修后，检验表1中2与7两项的指标，应符合本栋准中的规寇。3.5 检验用的仪表与检验点之间使用的金属管道硬接连接，管道应尽量矩，不得有和二次污染。甲加说明=本标准由中国电子学会洁净技术学会提出，由电子工业部标准化研究所主办。本标准由中国科学院半导体研究所尹恩华、电子工业部标准化研究所赵长春和北京半导体器件试验中心周定华起草和修订。 -一。
