1、前言本标准等同采用 年 标准版本微型构图部分中的 光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则标准是国际上公认的一套半导体设备和材料国际标准 光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则是其中的一项它将与已经转化的 硬面光掩模基板 硬面光掩模用铬薄膜 硬面感光板中光致抗蚀剂和电子抗蚀剂 圆形石英玻璃光掩模基板 光掩模定位标记规范及 用于集成电路制造技术的检测图形单元规范 和 掩模曝光系统精密度和准确度表示准则 两项 标准形成一个微型构图标准系列 并为今后还要继续转化 掩模缺陷检测系统灵敏度分析所用的特制缺陷测试掩模及灵敏度评估方法准则标准提供规范依据本标准是根据 标准 光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则制定的在技术内容上等同
2、地采用了该国际标准本标准的格式和结构按国标 第一单元第一部分的规定编制本标准从 年 月 日实施本标准由中国科学院提出本标准由电子工业部标准化研究所归口本标准起草单位中国科学院微电子中心本标准主要起草人陈宝钦陈森锦廖温初中华人民共和国国家标准光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则国家技术监督局 批准 实施范围本准则的范围是制定有关光掩模缺陷分类用的标准术语 并规定缺陷大小的表达方法 确定光掩模缺陷时应遵循这个准则引用标准下列标准所包含的条文通过在本标准中引用而构成为本标准的条文 本标准出版时所示版本均为有效 所有标准都会被修订使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性微电子学光掩蔽技术术语掩模缺
3、陷的类别掩模图形缺陷形状缺陷不透明缺陷小点 近义词 小岛桥连凸起 在不透明图形上外扩 不透明图形边线过大 不透明图形缺口 在透明图形上内缩 透明图形边线过小 透明图形透明缺陷针孔空白缺口 在不透明图形上内缩 不透明图形边线过小 不透明图形凸起 在透明图形上外扩 透明图形边线过大 透明图形错位误差拼接误差套准误差透光度缺陷半透明的图形半透明的不透明缺陷半透明的透明缺陷图形丢失不透明图形丢失透明图形丢失边缘粗糙玻璃缺陷亮斑小坑划痕碎渣细槽纹抛光伤痕变色气泡其他缺陷由于各种不明原因如晶体生长静电损伤或有机物淀积等而产生的不应有的透明点或不透明点光掩模缺陷大小的定义孤立缺陷远离图形的形状缺陷称为孤立缺
4、陷小点或针孔属于这种类型的缺陷 其大小用 宽度和高度来描述 孤立缺陷的宽度用 方向的尺寸来表示高度用 方向的尺寸来表示边缘缺陷与图形邻接的形状缺陷称为边缘缺陷 含图形某边线外扩缺陷和内缩缺陷 但位于接触孔图形岛状黑点图形 及其他拐角图形的顶点处因邻近效应产生的边缘缺陷称为角缺陷 其大小的定义应按照项的规定 边缘缺陷用 宽度 和 高度来描述 边缘缺陷的宽度用平行于图形某边方向上的尺寸来表示 高度 用垂直于该边方向上的尺寸来表示角缺陷接触孔图形岛状黑点图形及其他拐角图形的顶点处的角缺陷按下述定义确定其大小角缺陷的大小用 宽度 和 深度 来表示角缺陷的 深度 用角平分线与实际图形边界相交的交点至原设
5、计顶点的距离来表示 见图过大和过小过大和过小的定义如下见图和 是预期的目标值 和 是实测值 当 或 为正值时称该图形尺寸过大当 或为负值时称该图形尺寸过小图 角缺陷宽度和深度 表示或 为正值图形尺寸过大或 为负值图形尺寸过小图 图形尺寸过大和过小图示错位误差错位误差的数值等于该图形偏离其预期位置的 位移量和 位移量无规则形状缺陷不属于 缺陷类别的其他无规则缺陷的大小用包围该缺陷的最小矩形的两个边长来定义如果这个缺陷影响到图形结构则用能包围正常图形结构边界以外的缺陷部分所用的最小矩形的两个边长来定义透光度缺陷透光度缺陷除了要评估其大小外 还要评估其透光度 应明确说明测量时所用的波长 缺陷的尺寸应与其他缺陷定义一致
