1.1本标准规定了硅片表面的有机污染物的定性和定量方法,采用气质联用仪或磷选择检测器或者两者同时采用。1.2本标准描述了热解吸气相色谱仪(TD-GC)以及有关样品制备和分析的相关程序。1.3本标准的检测限范围取决于被检测的有机化合物,比如碳氢化合物(CC)的检测范围就是10 g/cm10g/cm。 1.4本标准适用于硅抛光片和有氧化层的硅片。1.5本标准中包含了两种方法。方法A适用于切割后的硅片,方法B则适用于完整的硅片。两种方法的不同点在第7部分中有详细描述。
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