1、UDC 535.3: 53 : 08 N 34 fl主:I工家GB 4315.2 88 Optical transfer function Directives of measurement 1988-12-22发布1989-07-01实施国技术监督发布一-一一、中华人民共和国国家标准光学传递函数测量导则C 4315.2 -88 Optical transrcr runction-Dlrcct!vcs of mcasurement 1 引言1.1 本标准是光学传递函数标准的第二部分.1.2 本标准介绍了有关成像系统光学传选民数测盘装置性能要求、组成.使用和环境控制的一般规则，并给出了可能影响O
2、TF到茧的各个意要因素、为保征精确测量所必须考虑的耍点，以及波:1得数据的修正因子.1.3本标准所描述的光学传递函数测量装置，限制在分析被测光学成像系统的像平丽的辐射分布.这些装置不涉及以干涉仪为基础的仪U.2测量装置和环境2.1 基木要求2.1.1 测盘条件及成像状态在进行测盘时.必须确定系统成像状态的各个参数.整个一组成像状态的参数都必须调整到要求的值.这组参数值表示为一个特定的成像状态，并成为测量条件的重要组成部分.2.1.2 测量精确度OTF测盘精确度是由成像状态的许多单一参数引起的误差综合决定.所采用的测量装置和虾、皮必须允许把规定的测量条件调整和固定到一定的精确度.而这一精确度应与
3、所能的测量精确度相协调.确定了OTF测量所需的精确皮之后，就必须对成像状态中的每一个有影响的参数进行公l:分配.2.2 环拢。TF损!:I!t装置必须放在不受气侯、机械振动或11.1磁干扰影响的环境中，且装置和室内的空气应保持元灰尘、潮气和烟雾.班有光学零件表面必须防护好.避免划痕和手指印-2.2.1 温度和湿皮温度和混度必须保持在规定的公差范围内，并把它们记录下来.为了避免空气的扰动和分居现吉、对测蓝的影响，可采用防护罩.2.2.2振动为了减小振动，建议使用隔振的基座.对于一个给定的测量精确度，隔振程度取决于振动的特性.泯ll:方法和空间频率范围.如果测量方法基于测盐线扩散函数，则在拨动频率
4、较低的情况下，由振动引起的像的移动必须不超过测试狭缝像挺大强度半宽的t120. 2.2.3 也磁干扰供11.1电源的变化、外界也磁场的影响以及周围环境光强的影响，都必须减少到不影响OTF的&J盘.2.3 iJ!IJ .!11装置2.3.1 光学台任何测盘装置必须由一个坚固的光具座或光学台组成.它用来安置测试图样组件被测样品、像分析器和其他辅助组件.中华人民共业部1988-11-03批准1989-07-01实施、1 GB 4315.2-88 根据被测试成像系统的不同情况，应对各个调整环节的直线位或各导轨的平行度等提出不同要求.对上述任一要求的不满足而引起的MTF测显的变化都必须不大于允许或规定测
5、盘精确度的1/3. 2.3.2 1lJ焦容许mn因光具座的不对准而产生的商焦影响，导致了MTF的测应误差.离焦和MTF的变化程度与空间频率和F数有关，下表给dl对一个带有囚光膛的非相干照明的衍射受限透镜引起MTF改变士0.05时的两焦贯士i:.z.其中的变盘是F数和空间频率.光波长取为500nm.表1为离焦盘的测:!lt岱.表1土/:，.空间频率、(mm-) 5 10 20 SO 100 F数I 54 11 5 2.S 1.1 0.5 1.4 76 IS s 4 1.5 0.8 2 108 22 11 主2 1 4 216 44 22 11 4 3 s 432 88 44 22 12 13 1
6、6 864 176 88 44 SO 410 引起MTF改变0.1时的离焦量:ti:.zti(上表中的倪加倍.中间值可由内插法得到，但粗实线右下方所囚的部分除外.2.3.3测缸中相对位置的确定必须确定测试图样、被那系统或装置(被汲i样品)、像分析器以及辅助系统灼相对位置.这些辅助系统包括标尺、转驰、皮盘等.此外，所有影响被测样品成像状态的其它参数必须加以控制、调塾或确定.2.4 部盘装置组成部分2.4.1 测量装置的光学系统布局 测盘装置可以有各种各样的布局.下面是推荐的布局:、 物和你均处于有限远，Xof物和I:事均处于有限远的测试.可采用图1或2所示的布局.在这些布局中，三个基本组件中两个
7、组件是沿着两个相互平行的，而且又与参考轴垂直的滑轨移动的，通常被测样品被固定，而其它的两个组件作图上所示的移动.当测试象增强器这一类光电器件时.则采用辅助成像系统.在被测样品的输入端产生一个测试图样的像.并将输tii端的像转送到像分析器.相应的装配如因2所示.2 2 1一测试图样组件;3一参考轴.5一被测样品:7一像分析器GB 4315.2-88 (a)轴上3 (b)割l外, a 图1测试装置示意(物和l军均处于有限远)2一世1试!引样细件的精轨，4-t1持1梓品装央座，6寸辈分析滑轨，7 3 1 4 3 1一测试图样组件，3一参考制;5一被测样AA装央应.7 中继透1J;9罪分析1mG 43
8、15.2一-884 (的轴上(b)制外图21量增强嚣的lJ试装置示意2一测试附件细件的滑轨;4一中继透镜;6一槌测样品;B草分析器滑轨;8 GB 431.2-88 b. 物处于无限i4对物处于无限远的测试I-，iI采用与阳3相关似的布局.当进行轴外测hlll才.准直仪可统迎过被ii!1样品人EE中心并要直J.参考铀的轴线旋转角度，如同所示.反之.ilf使lIt直仪肉定，被击I样品和你分析器一起绕人腹中心旋转.在此情况下，敬酒i样品的装夹l1i和你分析器滑轨箭一起刚性同定在一个转动基座上. fl处于无限远把I￥I3中的罪分析器与测试罔样组件交换I.!i.R.即可在同样的装置上进行*1lil:.
9、l l 测试图梓组件;3-准蓝物镜;5一位割样品;7-像分析器2 4 (.)轴上 2 一(h)轴外图3测试装f:示意物处于无限远)2 皇寺梢，4 被测梓JA装央陪;6一像分析!滑软 B 5 . 一 5 2 1 2 因41一剖试图样组件;3-1佳直物锐，5一被测样品，7斗军分析器制l;也物和像均处于无限远GR 4315.2-88 4 号IZ (a) 轴上3 (b) 轴外测试装置示意(物和像均处于无限远)2 参考轴;4一被割佯品装央座;6时准直物镜;8盘分析器7 8 , )(;f物和像均处于无限远的被测系统，可采用与因4相类似的布局.当进行轴外测量时.物方准立仪连同测试图样组件需绕一个通过被测样品
10、人血中心并蚕豆于参考铀的轴线旋转角度.像方准直仪连同像分析器需绕一个迈过出瞪并蚕豆于参考轴的轴线旋转角度.同时，可以重新调焦.2.4.2 测试图样组件6 GB 4315.2-88 测试图样组件由一个测试图样和一个辐射源组成a. 测试图样用来测量OTF的测试图样的空间频i吉必须已知.通常可采用圆形光孔.!是缝.刃边、光栩以及已知几何形状的白发光测试图样.测试图样的几何形状应非常精确.例如在使用狄缝的情况下，狭缝的宽度需在整个有效长度内保持一致.狄缝两个刃边平行度的常用容差为它的平均宽度的2%.而刃边的直线度必须不超过平均宽度的10%.在规定狭缝自身容差的同时，也窃要规定狭缝周围的透射比.根据所需
11、要的测量精确度，在规定的光谱范围内.狭s!开启部分发出的总辐射通盘与周围暗的部分发出的总辐射通量之比必须大于1000.为了能在不同的方位选行OTF测盘(见GB4315.1-3.12)，对于非旋转对称的测试图样必须能变换方位，某些成像系统要旋转测试图样的像.因而为了能把测试图样的像或分析元件转到分析所要求的适当方位，还需要有一个精密的调节机构.为了能检查并满足等晕区的条件(见GB4315.1-2.1 6), 可词的.b. 辐射派光源的光谱发射以及在全空间的辐射分布在测量过程中必须保持恒定.并应消除光的脉动.测试图样必须均匀照射或发光，至少在扫描方向上应是这样.可以用法光片来得到所要求的光谱分布.
12、散热栅、温射器.有限孔径或其它元件均可用来得到所需的辐射的角分布.必须充分注意测试图样发出的辐射的非相干性.可以在光源和测试图样之间紧靠着测试图样的地方插入一个没射器，即能获得非相干辐射.假如测试图祥是自身发光的(例如一根白炽灯丝)，则非相干条件将始终得到满足.要测定测试图样的辐照是否充分地非相干，可在光源和测试图样的地方插入一个相位物，并检验它是否改变了MTF或PTF的测盘.2.4.3 被测样品的装夹为了能在不同的参考角进行检验.似tI阳%o;ry(Itt=l刊叫a刷刷刷Tr刊被割样品与装夹座的垂直和平行也必须检验，尤其是样品安装面与装夹座固定商之间使用连接器时更需注意.2.4.4 辈分析器
13、通常使用的像分析器有两种基本形式:第一种是宜接模拟傅里叶交换.它是由一个带有可变空间频率的分析元件来对狭缝测试图样像的辐射分布进行扫描.得到像面空间颜谱，也可反过来扫描.第二种是测量狭缝测试图样像的辐射分布并计算像而空间频谱.经适当归一后.llP为OTF.像评价系统由像分析器和任何一种用来计算OTF的处理装置组成.必须注意像分析器中的辐射探测器和信号处理电子系统应在线性区域工作，考虑了测试图样空间频谐和其它因素的修正使用以后(见本标准第3意).就得出了被测样品的OTF或MTF.频i吉分析的精度必须充分满足测量精确度的要求.节.用作分析的元件通常是狭缝刃边或光栅.它们的大小和方位必须能根据被分析
14、的像而进行调根据分析元件与像之间的相对运动来实现扫描，既可移动测试图样，也可移动部分分析元件.扫描长皮应保证OTF测量精确度所需要的全部信息(见本标准3.2.4).辐射探测器的光谱灵敏度和角灵敏度必须已知.并在测量条件中予以规定.在定位时，分析器不应限制被切样品的出.M孔径.必须注意防止探测器的不均匀性、非线性及不稳定性对测量精确度的明显影响.由分析元件周围暗的部分传递到探测桥的辐射必须保持极小.根据所要求，在规定的光谱区域内，由透光部分传递的能量必须超出自周阁暗的部分传递的能量的1.000倍.如果边过模拟电学滤波器来分析像的频i普.那末滤波器的带宽必须足侈窄.以便能分辨OTF的、7 GB 4
15、315.2-88 空间频i曾.如果通过使用多个lll!lltU来进行频谱的分怨.则每个滤波器通频带内的增益和相位必须补偿或修正.2.4.5辅助成像系统辅助成像系统包括准直仪、显微物镜以及其官辅助元件.如果使用准直镜，则在有效光谱区域内，它的波回像差必须足够小.以致与被忽1样品相比可以忽略不tt.可以为被测样品被西像差的1/10.准直仪必须不限制被ru样品的人射和出射孔径.当用显微物钱放大测试图样的像时，应使它的数值孔径足够大.以避免在轴上和轴外测量时的渐晕，并且它的像差与被测样品相比应很小.当使用非相干搞合的辅助成像系统时，其OTF必须已知.以使它们对测得的OTF的影响可用乘积的法则来修正.由
16、于被削样品的物场和像场之间还有辅助的光学元件，例如窗或分量j板等，因此在测盘装置中必须模拟这些元件.应该确保所有辅助成像元件的光谱特性与测量所要求的光i普特性相适应.3 测量注意要点3.1 Hil条件的调整3.1.1 环境环珑参数诸如温度、湿皮和气压都是测盘条件的组成部分.在开始测量之前.应保证温度和温度调到限定范围内.被测佯品光学表面必须消除灰尘.手指印等-3.1.2 光说特性测试图样所发出的光谱分布和像分析器的光谱灵敏皮.必须符合所要求的测量条件.如果被割样品不包括像增强器等光电成像15件时.测盘装置的总光谱特性是光U.探测器.滤光片和其它辅助元件的光i昔特性的组合，3.1.3 角分布和孔
17、径条件应把光源或漫射器或两者都使用)射到被测样品上的辐射的角分布调整到所要求的状态，且辐射应只受被测样品的入隘的限制.像分析器的角响应必须满足规定的测量条件.3.1.4 方位在每一个轴外位置上.通常对子午和弧欠方位选行测盈.也可选用其它方位(450方向).3.1.5像高或视场角推荐选用表2所示的值., 8 GB 4315.2-88 表2像高视场角。0.3 hmu. 0.3 tg副翼O.S hmu. 。.5tgmmu 。且5/(皿0.850 tgmu h回皿tgm回M这里hmu是最大的翅定像高，mu是提大的规定视场角.特殊应用中可选择另外一组值，应可虑正、负视场.3.1.6 被测样品的参考角迦常
18、.实际光学系统OTF值与参考角有关.OTF测量应在规定的参考角位置上进行.参考角可按参考标记或MTF测试的情况而定.3.1.7成像比尺成像比尺的调定与调焦有关.当被测样品在有限共辄下进行测试时.可以规定成像比尺或物像距离或后裁距.测量中所需要的任何一个辅助光学系统的成像比尺.都必须相互独立地进行调节.使用周期性的测试图样时，成俄比尺可由精确测量像平面上的同期来确定.3.1.8调焦调焦是浪j盘条件的一部分，并用来确定基准平面.调焦不应使成像比尺的变化超过所要求的测量精确度的容限.词焦依据可以是:对给定空间频率将被测样品在轴上调焦到最大的MTF但.实际上基准平商常取位于中间的一个平丽(在政位平面之
19、前或之后).在这个平顶上MTF值下降到规定空间频率下MTFma萃的一个指定的百分比.b.对于有像散和场曲的被测样品，可以规定一个最佳测盘西.这个丽可以在不同阴阳且T刷视场位置以及测试目标的不同方向上预先测量MTF.然后按规定的法则取一个适当的平均值来确定. 也可选用其它明显的特征，如忍住主双测量分辨率，是位空间带宽等-3.2测量的有关因素OTF测量要受某些附加参数的影响.因此.这些参数的调定必须经校正和检查.下面是几个最重要的参数.3.2.1 被割样品的线性范围被测样品必须在其线性范围内工作.)(J许多系统来说.可以通过以5倍的比例改变输入辐射的方法来检查.这时测得归一的OTF值的变化不能超过
20、所要求的测量精确度的总容阪.非线性工作的成像系统例外.3.2.2等晕区域9 , GB 4315.2-e8 测试图样的大小应不超出被测样品的等晕区域.如果测试图样缩小为原来的一半时所测得的OTF值完全相同.91U就认为达到了这一要求.3.2.3 固定的图样噪声被测样品的像平面包含了如荧光屏或漫射屏的颖泣皮大小所产生的固定的图样噪声.为了避免固定的图样噪声对测量的影响，测试图样和分析元件应足够大.3.2.4分析区域分析区域的大小取决于被测样品的成像质量和所要求的测量精确度.如果分析区域太小，会产生截断误差.如果分析区域过大，则可能引入其它的误差.当利用刃边扩散函数(ESF)时.可根据ESF都以直线
21、(通常是水平线)起始和终止这一点来位查分析区域是否足够大.3.2.5 背景相射背景衍M使零空间频率和邻近零空间频率时的MTF岱迅速提高，使OTFru盘精确度降低.背景辐射是由周围光线或暗电流所引起，如果包括了背景信号在内的测量信号的频谱和背景信号的探说可以分别得到.则可以从tl.ft频谱中减去背景频话来消除背景辐射的影响.3.2.6杂放光迎常，把像差和杂散光对OTF所产生的影响完全分开是不可能的.在MTF测缸中.当修正了背景辐射的影响之后，如果靠近零空间频率的MTF仍然迅速提高，这可能就是杂散光影响的一个表征(见本标准4.1).3.2.7像与分析元件的相对位置测试图样是非旋转对称时，则测试图样
22、像与分析元件的相对位置和扫描方向必须与规定的测试方位相对应.通过旋转测试图样或分析元件.使测得高频段的MTF达段大，就可以实现这一要求.3.2.8信噪比使OTF测量在l降低的噪声源包括领射探测!i和信号处理器电子系统产生的噪声;输入辐射中一定数f茸的噪声;光电成像系统这类被测样品内部的噪声源;固定的因样噪声等.为减小晓声的影响.应根据所要求的空间频率范围.被测样品的线性和等晕状况以及所妥求的测量精确皮，尽可能增大测试图样的辐射强度和分析元件的尺寸.当使用狭缝时.为了得到a佳的信噪比，可以选择一个政佳的狭缝宽度bopt设m为被测的段高空间频率，最佳狭缝宽度一般为:辐射源或周围光线的微小脉动会产生
23、相应的测量误差.应尽一切可能消除.4 正4.1 归一OTF以零空间频率时归化为1来定义.但在测量中一放不可能严格做到这一点.当被测系统引人的杂散光忽略不计，且没有戳断误差时，则可在妥求的浏览精确度范国内对测量倪进行归化.4.2 频率标皮的修正当进行轴外测量时.如果测试图样是位于?!l主仪焦平顶上的一个光衍，则有时必须对频率标度作10 GB 4315.2-88 进一步的修正.如果光栅处于子午方位.则频率标度必须乘以cosw;如果光栅处于孤矢方位.则乘以cosw(见GB4315.1-3.12)，测试远焦系统时不必进行修正(图4b).4.3 调制度的修正测试图样和分析元件的空间频i首都会影响测盘结果
24、.如果像分析器不能自动修正这些影响，则必须通过修正测量结果来消除这些影响.例:对字一个宽度为b的物或扫描狭缝，测得的未经修正的调制传递函数T.(r)ff用下式来修正:MTF(r) = 1m (r) (旦盟与斗-1.叫.，.川.川.叫.rn h 这里b和r应参照同一参考平面.如果使用了非正弦光极作为测试图佯.则除了基频以外的所有空间频率都必须滤去，或者通过计算来消除它们对剖虽结果的影响.4.4 辅助成像系统在测Ll:光电元件或其它非相干1月合系统时.如果使用了中继透锐，则必须用各个中继远镜和其他元件的词制传递函数MTF，(r)来修正损if的1M传递函数Tm(r)Tm(r) MTF(F)=-HH-
25、.叫3)MTF, (r) MTF ,(r) 5 OTF数据的表示OTF数据应该以曲线或表格的形式来表示，这些曲线或表格是按测量条件和估计的测盘精确度的详细情况绘制成的.这种表示应确保对相同的阳军系统在不同的实验室测得的OTF数据进行快速而方便的相互比较.为此推荐几种可供选拌的;去示方法.下面所推荐的不仅可用来表示出浏览得到的OTF数据.也可以表示自计算得到的OTF数据.以便j(J i!J!Hil:军11计算得到的OTF数据进行比较.5.1 :JLl:条件的表示必须明确指定放犯样品的成像状态.以使各实验室之间能在同一成像状态下对测盘缸进行比较.因而必须列出一张确定测量条件的所有参数的总日Jj.日
26、法包括:a 实验室名称，仪器型号;b. 结果数据的类型(测或计算);C. 被测样品的规格一一型号、编号;d. 焦距，e. F数，f. 参考标记ig. :Iil大靠高(hmu)或段大权功jl(.m.);h. 成盘比尺牙11区域比例系统;i. 参考平丽;i. 被双l样品的参考角;k. 光i宫和l角辐射数据，1 1 物商或视场角;m. 方位(例如子午和弧欠);n. 调焦标准和基准平面;O. 测量平面ip. 空间频率范图或离散空间频率集;q. 频率标度所对应的平面或空间;r. 测盘精确度.GB 4315.2一咀S视被测样品而定的附加测量条件包括:a. b. 附加的光学元件;温度、湿度及其它环挠条件;C
27、. 光电元件的工作电压.当用曲线图表示OTF结果时，主要的测量:条件应列在图中见附隶Al).5.2 OTF数据的曲线图表示OTF由MTF和PTF组成(见GB4315.1).子午和孤矢两方位的OTF曲线可表示在同一张图上.在大多数情况中只用MTF.如果MTF和阿F都简要.则两者可表示在同一张图中.也可分开在两张图中.如果表示在一张图中显得模糊，则必须用两张分开的图.也可把OTF绘制成一个空间频率以及像高h或视场角的曲线，其它参量的使用应只限于特殊的成像系统或特殊的应用(见图A4).两坐标轴应该是直线.并以零为起始.当绘制PTF曲线时.零点(对零空的中点，RPffi相应的横坐标向上移.由此把PTF
28、绘制在:t180 (士)范围内(见附录A3).测得的PTF中的线性项应在表示之前就减去(见GB4315.1).这样.PTF在零空间频率时就以一条水平线为起始.若是这样处理.则PTF相对于空间频率的微商在零空间频率时就等于零.虽然有时耍准确确定线性项是囚难的，但为了同样能方便地进行比较.应尽可能做到这一点.空间频率用mm-t或mrad-t标出.视场角用mrad或度标山.而像高以mm表示.横坐标变盘的报大格岱应取为1.2或5x1OX.这里X为一个整数，并取决于成像系统的损坐标变瑟.当子午和弧欠OTF曲线需要一起表示在同一张图上时.建议子午OTF曲线用实线.而弧矢。TF曲线用虚线(见附录A2).5.
29、3 数量表示OTF数据的数量表示应包括与上述曲中相同的范围见附表A4).6 精确度检查OTF测量精确度可以使用标准试样来估计.这些标准试样只能在限定的成像状态进行测试.光皮学参数和几何学参数的精度.以及由中继远镜和环境因素产生的误差大小.都需要通过一些基本测试确定.当检查OTF测量仪器时.必须考虑光皮学.几何学.辅助镜片.环绕以及其他元件的各种因索.12 GB 4315.2-88 附祭AOTF数据表示举例(参考件Al XX实验室，MTF和PTFXX摄影物镜f/2.f=15mm. No.OOOI23 xx型仪器22mm 。像平而外壳上的红色箭头o 90. 180. 270. 光谱分布A(见图A1
30、)O. 0.5. 0.7. 0.85. 1.0 h mu 子午和孤欠20mm-t时坛大MTF.h =0 mm.=546士5nm. f/2.参考角。子午方位.基准平面(DP).DP+5m. DP-5m ;.tTF士0.03.PTF:t 5. 。-05mm-t间隔10mm-t实验室:测量:被测样品:I&大像高(hm，):成像比尺:参考平面:参考标记:参考角:光i曾分布及角响应分布:像高:方位:调焦标准(基准平面):度百而确田平精mE最川到剖空11 、俨dF / / / / JJ , , , , 1.0 0.5 倒誓震四特13 nm 700 布分谱光的统系量制制600 500 图A1425 。GD
31、4315.2-88 A2 宿TF的前线图表示实验室:试样型号:参考角:去IF王:方位:22去平回Jfti苦条钊:孔绕:1.0 比LF主-f-/弧矢+手午t唰 t h、0.5 。40 50 :0 10 20 空间频牢mm-1 因A2MTF作为空间频率函数XX实验室)( x照相物镜No.000123270 6 mln 子午刹1也矢DP ). 12 A3凹F作为空间频率函慰的幽线图表示:实验室:试样型号:参考究1:快离:Xx实验室x x P.fl相物镜270 6rnm 二手午No.000123 P 1fl平面:DP 光i苦条件:A 孔径:f/2 咱 1 80。E 例。-。 阴。一180。A4 MTF
32、和PTF的数表示空间Jni仰而)l1TF(r;于午MTF(.;弧欠PTF(,)( ) GB 4315.2-叫E3P :乎吁2? 趴l41/ 50 空间频丰mm寸因A3MTF和PTF作为空间频率函数。1 Z :D G 50 1.00 0.72 0.31 。18。.1g 0.13 1.00 0.89 0.65 0.40 0.29 0.22 。s 21 JS 49 56 GB 4315.2-88 1.0 hHHE 、/于午r= lOmrn-1 0.5 r=20mm-1 、。5 10 15 20 像高mm-1因A4MTF作为像高的函数符号和测试条件实验室:XX实验室试佯型号:x x照相物镜No.000
33、123参考角:270 像高:6mm 方位:子午和孤矢测量平商:DP 光i普条件:A 孔径:f/2 其官参数见技术条件 附加说明:本标准由上海光学仪器研究所归口.、本标准由上海光学仪器研究所负资起草.16 中华人民共和回国家标准光学传递函数剖R导则GB 4315.2-88 机以工业出版社出版(t京阜成门外百万庄雨里一号)(北京市书刊出版业营业许可证出字第117号) 版权专有不得翻印 问北省济冈县印刷厂印刷机械电子工业部机械标准化研究所发行(北京清华东路) 开本880x1230 1/16日1张lj吼:川001989年9月北京第一版.1989年9月清河第一次印刷事印lC:00.001一1000统一书号111一10348
