1、ICS 37N 30备案号：20763-2007 J B中华人民共和国机械行业标准JB，T 7484-2007代替JBT 74841 994铝(A1)反射镜镀制工艺20070529发布Coating techniques for aluminious reflector2007-1 1-01实施中华人民共和国国家发展和改革委员会发布目 次前言1范围12规范性引用标准13术语和定义14反射镜分类。141外反射镜142内反目十镜。143金属介质反射镜：。25主要设备。251真空镀膜机252清洗机26工艺流程27镀膜前的准备。271对辅料的要求。272真空室清理273热子处理与安装274零件清洗28
2、镀用281膜料预熔282外反射镜与内反射镜的镀膜383金属介质高反射镜的镀膜39质量检验3前 言本标准代替JBT 7484-1994铝(A1)反射镜镀制工艺。本标准修订时删除了离子轰击部分的内容，将可见区保护膜(层)的镀制材料由一氧化硅(SiO)改成了二氧化硅(Si02)。本标准由机械工业联合会提出。本标准由机械工业仪器仪表元器件标准化技术委员会归口。本标准由沈阳仪表科学研究院、国家仪器仪表元器件质量监督检验中心负责起草。本标准的主要起草人：王银河、张辉、李延夫。本标准于1994年首次发布，本次为第一次修订。ni铝(A1)反射镜镀制工艺1范围本标准规定了光学零件真空镀铝的工艺流程、镀膜质量及主
3、要参数控制。本标准适用于可见、紫外与近红外光谱区使用的光学零件真空镀铝反射镜，加介质保护膜的外反射镜与加保护漆的内反射镜，以及加镀多层介质膜层的金属介质高反射镜。2规范性引用标准下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准。然而，鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本适用于本标准。GBfI11164-1999真空镀膜设备通用技术条件JB厂r 82263一1999光学零件镀膜外反射膜JBT 822641999光学零件镀膜内反射膜3术语和定义下列术语和
4、定义适用于本标准。31真空镀膜vacuum coating真空中被加热的金属或介质材料达一定温度时发生汽化或升华，从本体逸出的分子(或原子)辐射、撞击、凝聚在特定位置放置的工件上而形成所需薄膜的工艺。32基片substrate薄膜的载体。待镀膜的表面应是新加工的光学表面。33膜料coating materials获得薄膜的初始材料。34热子与蒸发源heating unit and source对膜料加热的单元是热子；热子与膜料组合则称为蒸发源。35辅料assistant materials膜料以外的与镀膜工艺过程相关的辅助材料。如热子材料，清洗用的纱布、溶剂等。4反射镜分类41外反射镜基片的前
5、表面是镜面，待镀膜表面镀铝膜构成反射镜面。42内反射镜基片的后表面是镜面，待镀膜表面镀铝膜加保护层(漆)构成反射镜面，光线通过零件进行反射。43金属介质反射镜基片的前表面是镜面，待镀膜表面镀铝膜加多层介质膜构成金属介质高反射镜面。其结构表示为GAl+(LH)P，A式中：o基片：A卜铝膜；L、H-f氐折射率、高折射率的_弘有效光学厚度的介质膜层。凡为使用光谱区的中心波长； pL、H的周期数，通常取p=1或2。P值增加可提高部分光谱区的反射，但同时使反射带变窄A空气。5主要设备51真空镀膜机选用光学工业用镀膜机。生产外、内反射镜的设备可不具备膜厚控棚仪生产金属介质高反射镜的设备必须有膜厚控制仪；设
6、备安装工作条件应符合GBT 11164的规定52清洗机选用光学工业用镀前清洗机。依据基片适用特性选用清洗剂(酸液、洗涤剂、有机溶剂)和超声波清洗及脱水干燥规范。允许采用保证质量的手工镀前清洗。6工艺流程前期准备一待加工工件装入真空室一抽真空达l旷3Pa量级一膜料预熔彻底除气一快速抽真空达10-3Pa量级一镀膜一充大气取件一检验包装前期准备包括：基片清洗、真空室清理与热子安装和膜料处理与装料。7镀膜前的准备71对辅料的要求擦拭用的棉花、纱布必须脱脂、洗净、干燥；乙醇乙醚等溶卉可的纯度不低于分析纯。72真空室清理真空室内所有部件必须净化干燥，无油脂污染，不应用含气量大的材料制造附件，不应放人高蒸汽
7、压的物品。真空室内壁及部件需用喷砂或砂纸擦拭以去掉积垢，清洗、干燥后备用。73热子处理与安装热子用的螺旋状钨丝用苛性钠溶液煮沸去掉氧化皮，清洗干燥后备用。热子安装位置要准确、牢固、且不能受力扭曲。74零件清洗741清洗的作用是使得零件脱脂净化。742脱脂净化质量检验用哈气成像法。处理过的净化表面哈气时应呈现均匀的“黑色”哈气像。8镀膜81膜料预熔预熔应逐渐加热，彻底除气。熔化蒸发的材料应熔透。282外反射镜与内反射镜的镀膜821铝胰最佳伽备条件铝膜最佳制备条件：高纯膜料，铝的纯度不低于9999；真空环境必须干燥、无油；高真空蒸发，镀膜期间真空度不得低于39910-3Pa：快速蒸发，要在5s之内
8、完成；冷基片，基片温度为室温；-，J、的蒸气入射角适宜的铝膜厚度，厚度约为70nm80nm，透射比(率)在10。4以下。822保护旗(层)82，21外反射镜的保护膜外反射镜的保护膜是在真空室内镀透明介质膜，镀完铝膜后开烘烤加温lOmin，再蒸镀保护膜。保护膜的光学厚度为使用波段中心波长的1，2。偏离会使反射带中心位移；若饺成高级次反射带，则使反射带变窄。可见区使用的反射镜，推荐膜料为二氧化硅(Si02)；紫外区使用的反射镜，推荐膜料为氟化镁(MgF2)。8222内反射镜的保护膜内反射镜的保护膜通常是涂漆，在真空室外进行。漆的选择除要能有效保护外，不应与铝膜反应而降低铝胰的光学性能。83金属介质商反射镜的镀腆831铝膜最佳制备条件铝膜最佳制备条件同821。832铝腰上加镀的介质膜调整膜厚监控仪，严格按照膜系要求控制膜层厚度。镀完铝膜后开烘烤加温10min，再镀低折射率L层。9质量检验91外反射镜按照JB，r 82263检验。92内反射镜按照JB厂r 82264检验。93金属介质高反射镜光谱反射比按设计(或技术)要求检验，其余参照JB厂r 82264检验。
