JC T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素 量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法.pdf

上传人:吴艺期 文档编号:49973 上传时间:2019-07-08 格式:PDF 页数:11 大小:409.26KB
下载 相关 举报
JC T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素 量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法.pdf_第1页
第1页 / 共11页
JC T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素 量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法.pdf_第2页
第2页 / 共11页
JC T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素 量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法.pdf_第3页
第3页 / 共11页
JC T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素 量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法.pdf_第4页
第4页 / 共11页
JC T 2133-2012 半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素 量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法.pdf_第5页
第5页 / 共11页
亲,该文档总共11页,到这儿已超出免费预览范围,如果喜欢就下载吧!
资源描述

本标准规定了采用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)法测定半导体抛光液用硅溶胶中杂质元素含量的方法。本标准适用于半导体化学机械抛光(CMP)中抛光液用的各种硅溶胶。杂质元素包括:铝、钡、钙、铬、铜、铁、钾、镁、锰、钠、镍、钛、锌、锆等14种元素。

展开阅读全文
相关资源
猜你喜欢
相关搜索

当前位置:首页 > 标准规范 > 行业标准 > JC建筑材料

copyright@ 2008-2019 麦多课文库(www.mydoc123.com)网站版权所有
备案/许可证编号:苏ICP备17064731号-1