1、中华人民共和国国家标准硅片直径测量方法光学投影法Silicon slices and wafers-Measuring 。rdiameter-Optical projecting method 1 主题内容与适用范围本标准规定f用光学投影仪测量硅片直径的方法。本标准适用于测量圆形硅片的直径。测量范围为世40?1(10mmo 卒标准不适用于测量硅片的不因度。本标准用作仲就测量方法。2 引用标准GB 2828 遂批检查计数抽样程序及抽样表(远用F连续批的检查)GB 12962 硅单晶3 方法提要G/T 1 4 1 4 O. 1 - 9 3 和l肘光学投影仪，将硅片投影到显示屏上，使用螺旋测微汁和标
2、准长度块进行测量e以砖片投影的两端边缘分别t王显示屏t的垂直坐标轴左右两边相切，其位置差即为硅片直径。4 测量仪器4. 1 光学投影仪放大倍数为lO50X，载物台可在X和Y方向移动，移动范围皆为口._25mm，移动精度为lm。4.2 样品架，包括文架和样品央两部分。样品夹能在支架七滑动。滑动范雨为50-100mm 4. 3 标准长度块，长度范围为5100mm，绝对误差小于im，一套共20块。5 试验样品5. 1 从批硅片中按GB2828计数拙样方案或商定的方案抽取试样。6 测量步骤6. 1 测量在23士5C下进行。样品架及标准长度块应洁净。6.2 移动载物台到中间位贺。6. 3 按硅片的导电类
3、型确定要测量的兰条直径的位置，见图1。硅片参考面位置应符合(;812962的规定。国家技术监督局1993-02-06批准1993一10-0 1实施,22 GB/T 14140.1-93 3 P lOO) l N、100飞1 1 1 1 P L N(111) 图l各类试样直径的测量位置6. 3. 1 对于POll)和NOOO)硅片，要测量的三条直径是平行于主参考丽的直径和号谈直径成430角的另二条直径。6. 3. 2 对于POOO)硅片，第条直径位于主、副参考面的中间，第三条直径垂直于第-条直径，第三条直径与第二条直径成300角。6.3.3 对于N(11)硅片，第一条直径平行于主参考面，第二条宦
4、径与第一条直径成30角，第三条直径与第二条直径也成300角。6.4 硅片放入样品夹，使被测直径处于测量位置。6. 5 将与硅片直径尺寸相当的标准长度块置于样品架左端自6. 6 滑动样品夹，使硅片边缘靠紧标准长度块。6. 7 调节光学投影仪，使硅片边缘轮廓清晰地显示在植示屏上。6.8 调节螺旋测微计，使载物台在X方向移动，直到硅片边缘轮廓的左边与显示屏仁的垂直坐标轴相切.见图2。记下此时螺旋测微计读数F，-, ! GB/T 141 40. 1 93 水平轴图2试祥边缘在与垂直轴左边相切位置6. 9 移走标准长度块.记下基准长度L，滑动样品夹靠紧支架左端。试样图像6.10 调节螺旋测微计，使载物台
5、在X方向移动，并使蔽片边缘轮廓的右边与显示屏忙垂直坐标轴柑切，见囹30记F此时螺旋测微计渎数5。6.11 旋转硅片，使另一被测直径处于测量位置u重复6.56. 10条测量步骤，直至1则完三条在径。且铀试样国象图3试样边缘与垂直轴在右边相切位置7 测量结果计算7.1 硅片直径值按公式(1)计算:JrJ G/T 1 4 1 40. 1 .-93 D, = L十(F- S) ( 1、式中D，一一硅片在径测量值，rnnli L 基准氏度值，mm;F 第丰次记录的读数，mm;3 第二次记录的读数.mnl，注z砖片直径大于基准长度时，(F.5)为正值s硅片直径小于基准长度时，(F-S)为负值。7. 2 硅片直径的平均值5按公式(2)计算zD 3勺可-D 8 精密度本方法单个实验室测量二倍标准偏差为士16m。9试验报告9. 1 试验报告应包括以下内容:a. 硅片编号;b. 硅片批量及检测试样数量? 硅片直径测量值及直径平均值$4 本标准编号; 检测者及桃测日期。附加说明:本标准由中国有色金属工业总公司提出。本标准由洛阳单晶硅厂负责起草。本标准主要起草人王从赞、夏光勤。本标准等效采用ASTMF613-82硅片直径测量方法标准。一、
