YB T 1504-1977 氧化钕中稀上杂质的发射光谱.测定方法.pdf
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1、中华人民共和国冶金工业部部标准用all-IAF7圃-H一-M-日由-B广IVL氧化铁中稀土杂质的发射光谱测定方法1.方法要点本方法以碳粉为缓冲剂,标(试)样与碳粉等比例混合,粉末法,直流电弧阳极激发,在平面光栅摄谱仪上摄谱,以IgR-lgC绘制工作曲线。2.仪器设备平面光栅摄谱仪z光栅刻线1200条/毫米,光栅闪耀波长5000埃,负二级线色散率不小子1.25埃/毫米。直流电弧光源。快速测微光度计。3.试开IJ材料氧化敏:稀土杂质总量不大于0.01%。氧化铺(光谱纯。氧化销(光谱纯)。氧化错(光谱纯。氧化影(光谱纯)。氧化tl.(光i普纯)。碳粉:200日,光谱纯。电极2直径6毫米光谱纯碳棒。感
2、光饭:紫外n型。显影液:A+B配方。定影液:快速。4.标样制备将氧化铁和各待测杂质氧化物f900.C灼烧1小时。按计算壁,在氧化铁中中华人民共和国冶金工业部发布包钢冶金研究所提出行草试起日等川所厂叶究工问研化UV金龙7冶跃9钢海1包上YB 1504-77 共2页第2页加入各杂质氧化物,配成主标样,再用氧化铁逐个稀释,制得一套标样,其含量见麦1。再与等量碳粉混匀。表1杂质含量% LaZ03 CeOz Pr60 SmZ03 YzO, 主标样1. 00 1. 00 1. 00 1. 00 1. 00 号标样0.30 0.30 0.30 0.30 0.30 二号标样0.10 0.10 0.10 0.1
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